极紫外光刻机技术参数

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1、极紫外光刻机

国产7nm的光刻机还没有研制成功的，能够制造7纳米芯片的光刻机就是极紫外光刻机，目前能够制造极紫外光刻机的只有一家，就是荷兰的阿斯麦公司，而且阿斯麦公司也只是一个组装公司，极紫外光刻机是一个庞大的工程，它的零件都是全球最顶尖的科技，比如美国的光源，德国的镜头，法国机械臂，英国的电动马达，都是要求非常精密的，难度很大，所以我国还没研制出来

2、极紫外光刻机技术

不可以

DUV光刻机是深紫外光刻机，其可以用于生产制造7nm以上制程的芯片，而EUV光刻机是极紫外光刻机，用于生产制造7nm以下制程的芯片。目前中国最先进的上海微电子只能做到28纳米芯片光刻机，所以不能生产深紫外线光刻机。

3、极紫外光刻机参数

EUV极紫外光刻（Extreme Ultra-Violet）是一种使用极紫外（EUV）波长的新一代光刻技术，其波长为13.5纳米。由于光刻精度是几纳米，EUV对光的集中度要求极高，相当于拿个手电照到月球光斑不超过一枚硬币。反射的镜子要求长30cm起伏不到0.3nm，相当于北京到上海的铁轨起伏不超过1毫米。一台EUV光刻机重达180吨，超过10万个零件，需要40个集装箱运输，安装调试要超过一年时间。

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